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本文重点研究了介电超晶格结构中的光学表面波特性及制备工艺。与传统的表面等离基元共振相比,光学表面波具有两个明显优势,首先,光学表面波的激发频率可以通过调节介电超晶格的几何和光学参数而处于任意波段,而表面等离基元共振激发的频率由金属的种类确定；其次,构成介电超晶格的材料是介质,相比于用于激发表面等离基元共振所用的金属材料,对入射电磁波有较低的损耗。因此,光学表面波被广泛应用在集成光路、古斯·汉森位移增强、荧光激发增强和传感器灵敏度增强等领域。我们依托实验室现有的工艺手段,制备了介电超晶格结构,在介电超