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本文的主要内容是通过在氢化锆表面电镀Cr-C的方法制备氢渗透阻挡层。研究了在氢化锆表面制备氢渗透阻挡层的工艺，如电镀时间，电镀的电流密度，试样的预处理等工艺参数对制备氢渗透阻挡层的影响。研究了氢渗透阻挡层在700℃的阻氢性能。使用扫描电子显微镜(SEM)观察了氢渗透阻挡层与基体的结合情况；使用X射线能谱仪(EDX)分析了氢渗透阻挡层与基体界面的主要元素分布；使用了X射线光电子能谱仪(XPS)对氢渗透阻挡层表面元素价态进行测定；采用X射线衍射仪(XRD)测定了氢渗透阻挡层的组织结构。