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二氧化钛薄膜广泛应用于空气和水体净化,太阳能电池和自清洁等领域。制备Ti02常用方法有：溶胶-凝胶法、物理气相沉积法和化学气相沉积法等,本论文采用低气压等离子体,室温下,开展了沉积具有光催化活性的Ti02薄膜以及对所制备的薄膜进行等离子体处理的研究,得到如下的结果：1.通过电学测量和发射光谱诊断对放电过程进行研究。在纯氩气,氩气和氧气以及钛酸四异丙酯(TTIP)和氩气和氧气这三种放电体系中,放电功率均随输入功率的增加呈现线性增长的关系,而TTIP分压和氧分压对放电功率基本无影响,放电功率在3W～4 W之间变化。对于这三种放电体系的发射光谱进行诊断,其结果显示：在纯Ar放电中,增加心的流量,Ar原子激发温度降低,但是它的谱线强度增强。在Ar+O2和TTIP+Ar+O2放电中,增加氧分压,激发温度缓慢下降,但是随着输入功率的增加,Ar原子激发温度和氧原子谱线强度依次缓慢增加。2.采用低气压等离子体,室温,以钛酸四异丙酯为钛源,氧气为氧源,研究反应条件对制备的二氧化钛薄膜性质的影响。在实验所考察的范围内其结果为：Ti02薄膜的光催化活性随着氧气分压、TTIP分压、输入功率和沉积时间的增加先升高到最大值33%后,紧接着就会呈现下降的趋势。傅里叶红外吸收光谱显示所制备的薄膜含有羟基官能团,羟基的含量与薄膜光催化活性相对应,羟基含量增多,其活性增强,这表明羟基是影响薄膜光催化活性的主要因素,薄膜的紫外可见吸收光谱在365 nm处吸光度的高低也与薄膜的光催化活性的高低相一致。3.经过对制备薄膜的实验条件的考察,选用一个光催化活性最好的条件制备薄膜,将所沉积的薄膜进行N2和O2等离子体处理,450℃焙烧处理,结果表明：与未处理的相比,经过N2等离子体处理后薄膜的光催化活性由33%提高到55%,且与450℃焙烧后它的光催化活性基本一样,而经过O2处理后薄膜的活性略微有点下降。XRD谱图表明经过热处理和N2处理后有微弱的锐钛矿相特征峰出现。用N2处理后,Ti02薄膜的活性随输入功率和处理时间的变化规律呈现出先增长后基本保持不变的趋势。发射光谱结果表明N2分子转动温度从350 K上升到500 K,振动温度在4500 K与4800 K之间波动。