【摘 要】
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该论文所选取的研究对象Fe-Ni即是高饱和磁化强度系列材料中的一种.通过对Fe-Ni合金成分-磁性能相图的观察,我们发现FeNi在铁镍合金中具有最高的饱和磁化强度(1.6T),作为磁头
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该论文所选取的研究对象Fe<,55>-Ni<,45>即是高饱和磁化强度系列材料中的一种.通过对Fe-Ni合金成分-磁性能相图的观察,我们发现Fe<,55>Ni<,45>在铁镍合金中具有最高的饱和磁化强度(1.6T),作为磁头材料具有一定的潜能.最近几年,人们用电镀的Fe<,55>Ni<,45>薄膜代替Fe<,19>Ni<,81>作为磁头磁极材料,发现它展示出很好的软磁性能,由其所制作的磁头性能良好,所以由它作为磁头材料有很好的前景.但是文献中关于溅射方法沉积Fe<,55>Ni<,45>薄膜的特点却少有报道,考虑溅射方法具有它独特的优越性,例如可以制作含绝缘层的多层膜来减小涡流,我们该论文将利用溅射方法对Fe<,55>Ni<,45>做系统的研究.我们使用射频磁控溅射台沉积薄膜,主要研究了沉积在玻璃基片上的薄膜在制备过程中,各参数(包括溅射电压、溅射气压、溅射时间、基板保温情况)对其磁性的影响.直接沉积的薄膜软磁性并不理想,所以需要通过热处理进一步改善,为得到合适的热处理温度,我们对薄膜分别进行了200℃、300℃、400℃和500℃四个温度下的磁场热处理,结果发现要使热处理效果显著,热处理温度必须达到或高于400℃.然后我们在此温度下对各系列样品分别进行了热处理,以探求它们不同的热处理特点.
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