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1.保护基AZMB的新脱除方法研究一个保护基的使用必须有选择性地做出反应,以高产率得到稳定的受保护底物,便于参与下一步反应。保护基还必须通过容易获得的廉价绿色试剂被选择性脱除,并能从相关副产物中分离出来。选择保护基时需要考虑的因素众多,所以至今没有一个完美的保护基,开发新的保护基,并对已有保护基的保护条件和脱除条件进行优化拓展是非常有必要的。本文利用锌,硫酸铜,醋酸这一条件对保护基邻叠氮甲基苯甲酰基（AZMB）上的叠氮进行还原,达到脱除保护基AZMB的目的,并对相关底物进行了研究。1)在实验过程中利用AZMB保护的底物对反应所要求的溶剂、温度、硫酸铜、醋酸的当量及浓度等条件进行了筛查。研究发现必须要有水与1,4-二氧六环、乙腈、四氢呋喃等溶剂组合成共溶剂才能发生反应。新的脱除条件在常温下就能实现脱保护,温度过高会导致其他保护基也被脱除,使得脱保护产率偏低。不加入硫酸铜对反应过程没有影响,但是影响后处理过程,所以在反应过程中需要加入适量的硫酸铜。根据实验结果显示:CH3COOH控制在3eq到5eq之间,浓度控制在0.6 mol/L左右得到的脱保护收率最佳。2)以往利用还原性条件对保护基AZMB进行选择性脱除的过程中,由于这些还原性物质对苄基、烯丙基等保护基也有脱除作用,因此以往的脱除方法有一定的局限性。本文描述的新脱除方法可以脱除不同糖的不同位点的AZMB,同时能与乙酰基（Ac）、苯甲酰基（Bz）、对甲氧基苯基（Mp）、叔丁基二苯基硅基（TBDPS）、苄基（Bn）、烯丙基（All）、丙酮叉、硅叉等多种保护基进行正交脱除,且可以在40 min-60min快速高效地得到脱保护产物。3)实验结果证明在新的脱除条件下糖苷键也是可以稳定存在的,与此同时利用新方法对多个AZMB的底物进行脱保护也得到较高的收率。2.2-脱氧-D-核糖的合成研究本文主要利用了五碳糖二位脱氧的方法对2-脱氧-D-核糖进行合成。以D-核糖为底物,先将其异头位保护起来,利用硅叉保护其3,5位羟基。再通过碘代2位羟基,并对碘还原氢化实现了2位脱氧,最后进行脱保护,即得到了产物2-脱氧-D-核糖。该方法实验步骤短、操作简单、原料便宜易得,最后以五步反应41.9%的高收率得到产物。