Co、Cu共掺杂ZnO薄膜的制备及性质研究

被引量 : 1次 | 上传用户:allen_liliang
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
氧化锌(ZnO)是一种Ⅱ﹣Ⅵ族直接宽带隙半导体,室温下带隙为3.37eV,激子束缚能高达60meV,稳定的晶体结构是六角纤维锌矿结构,晶格常数a=0.3249nm,c=0.5206nm。ZnO具有优异的物理化学性质,特别是具有优良的光电,压电,气敏特性,在紫外探测器、磁存储器、半导体集成电路、半导体激光器、表面声波器件及太阳能电池等领域有重要的应用价值。随着科学技术的迅速发展,对蓝光和紫光等短波长发光材料的需求越来越迫切;而且TM掺杂ZnO稀磁半导体(diluted magnetic semicon
其他文献
随着大规模的信息和多媒体时代的到来,飞速发展的各种电子信息的交换及存储越来越要求器件的存储密度更高,速度更快、功耗更低、尺寸更小及重量更轻。以电子自旋为核心的下一代
当今世界,能源问题是世界各国经济发展的首要问题。相对于无机太阳能电池,有机聚合物太阳能电池由于其所具有的轻薄、材料来源广泛、低成本、可卷曲、可大规模制备等潜在的优点而成为人们近年来关注的热点。本论文围绕有机聚合物体异质结太阳能电池开展研究工作,主要内容及结论如下:首先是以MEH-PPV、P3HT、PCBM三种有机聚合物作为基础,配制不同质量比例的溶液制备器件ITO/PEDOT:PSS/MEH-PP
1988年,Albert Fert和Peter Grünberg在磁性多层膜中发现巨磁电阻效应,从此拉开了自旋电子学(spintronics)的大幕。往后20多年,在自旋电子学这个新兴的舞台,全世界的科学家们展
ZnO是一种Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体材料,具有直接宽带隙(室温下3.37eV),属于六方纤锌矿结构。ZnO在光电、压电、热电、铁电以及光电器件等诸多领域都表现出了优异的性能。开发ZnO材料在光电领域的广泛应用,需要获得性能良好的n型和p型ZnO薄膜,并制备出透明的ZnO同质p-n结。高质量的n型ZnO薄膜很容易实现,但由于ZnO材料在生长过程总存在诸多的本征施主缺陷(如氧空位Vo和锌间隙Zni等),对
M型钡铁氧体(BaFe_(12)O_(19),BaM)属于六角晶系磁铅石型铁氧体材料,具有良好的化学稳定性、机械硬度和抗腐蚀性,高的垂直磁各向异性常数使之具有较高的矫顽力和饱和磁化强度,可广泛应用于高密度磁记录材料、永磁材料、微波器件、微波吸收材料等方面。BaM薄膜在磁记录和微波器件方面的应用越来越多,普遍要求BaM薄膜具有良好的c轴取向来提高磁记录的密度或得到较小的铁磁共振线宽。本文着重研究将B