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随着触摸屏和触摸屏加工技术的发展，新型的激光刻蚀取代传统的化学刻蚀ITO薄膜生产触摸屏已经成为不可逆转的趋势，触摸屏的化学刻蚀作为一种成熟的、完善的刻蚀技术，在生产加工中仍占很大的比例。但是化学刻蚀工艺操作复杂、蚀刻液环境污染和成本高等问题成为其发展的瓶颈。作为近些年迅速发展的激光刻蚀技术，以其快捷、便利、投资少、回报多和对环境无污染等优点，逐渐的受到了人们的亲睐。这就意味着激光刻蚀在不久的将来会成为企业生产触摸屏的首选。 本文首先介绍了触摸屏的种类，对比了各类触摸屏的优缺点。接着介绍了ITO的透光性、导电性和研究现状，指出ITO薄膜在制作电容屏过程中不可替代的优势。然后系统的论述了化学刻蚀和激光刻蚀的工艺流程，分析和对比了两种刻蚀技术的优点和不足，并从理论上分析了激光功率、走速和频率对刻蚀效果影响的原因。 本文的重点实验部分，本实验基于激光刻蚀的原理，采用的激光器是奥瑞那公司生产的波长为1064nm的光纤激光器，通过调节激光的功率、走速和频率对触摸屏进行刻蚀，通过图像和数据分析不同激光参数下的刻蚀效果，最后得出激光刻蚀的最佳参数。 本文的最后概括和总结了前述研究工作的主要内容，提出了激光刻蚀的不足之处和进一步解决这些问题的可能途径，并简要说明了基于前述研究工作的后续潜在的探索方法和研究内容。