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该文以清华大学微电子所工艺线的实验数据为依据,使用美国SILVACO公司的VWF软件系统,研究了针对作者所工艺的虚拟制造技术.该文的重点是在已有成果的基础上,对0.5μm的双饼CMOS工艺进行设计和模拟. CMOS工艺中,阱注入和调开启注入这两步关键工艺对器件参数的影响较大.该文通过模拟,研究了它们的变化对器件开启电压的影响,以此为指导,设计、修改工艺模拟和器件模拟程序.