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多层膜光学性质的研究
多层膜光学性质的研究
来源 :中山大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:qianxiaojiong
【摘 要】
:
该文主要讨论椭圆偏振测量技术在多层膜光学性质测量中的应用,提出椭偏率测量方法,并把此方法应用于液晶显示器基片表面ITO透明电极和SiO隔离层的测量.
【作 者】
:
杨国良
【机 构】
:
中山大学
【出 处】
:
中山大学
【发表日期】
:
1997年期
【关键词】
:
椭圆偏振
多层膜光学性质
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该文主要讨论椭圆偏振测量技术在多层膜光学性质测量中的应用,提出椭偏率测量方法,并把此方法应用于液晶显示器基片表面ITO透明电极和SiO<,2>隔离层的测量.
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