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近年来，随着极紫外/软X射线(EUV/SXR)多层膜技术的不断发展，多层膜反射镜已被应用在极紫外投影光刻、等离子体诊断等方面。但随之也带来了一些问题，其中之一就是在高温环境下工作时，多层膜的结构会遭到破坏，从而使其光学性能降低，甚至失效。因此，为满足应用需要，开展了多层膜热稳定性的研究。
本文首先从材料在EUV/SXR波段的光学特性出发，介绍了极紫外/软X射线多层膜理论以及多层膜的设计，制备和检测；随后根据多层膜热稳定性研究的需要发展了一种多层膜膜层结构的表征方法：X射线掠入射反射率(SAXD)表征薄膜结构法，并用极紫外正入射反射率(EUV-NIR)的测试结果验证了该方法的有效性；然后利用上述方法对多层膜热稳定性进行了分析，包括多层膜热扩散理论和对普通多层膜热稳定性的改善方法；最后研究了Mo/Si多层膜和Mo/SiC多层的热稳定性，为今后的近一步研究提供了技术储备。
本文得到了国家自然科学基金资助。