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该文在分析比较几种实验设计方法后提出用2中心复合设计方法进行实验设计.然后根据国内微电路生产的实际情况,以硼矿再分布工艺为例,采用响应曲面建模方法建立工艺模型,得到工艺条件与工艺参数之间的映射关系.在建立的工艺模型基础上,讨论了回归控制图技术,解决了在工艺条件变化情况下对工艺过程进行受控状态分析的问题.结果表明:不同的模型可能带来不一致的判断结果,选择建立合适的工艺模型是正确进行回归控制图受控状态分析的关键.最后该文对一个实际的微电路生产工艺的工艺参数绘制了控制图并对其统计受控状态进行分析.