论文部分内容阅读
目前,硅薄膜太阳能电池的研究已成为国际光伏领域研究热点,这是由于它相对于单晶硅和多晶硅太阳能电池而言,具有耗材少,成本低的特点,尤其是廉价衬底的引入,使其在成本控制方面具有更强的市场竞争力。本文采用磁控溅射方法制备非晶硅薄膜,通过优化参数,提高薄膜质量,并为最终制备高性能非晶硅薄膜太阳能电池提供理论基础和工艺技术参考。磁控溅射法是一种简单、低温、快速的成膜技术,能够直接使用掺杂靶材代替有毒气体和可燃性气体进行溅射沉积成膜。与其它技术相比,磁控溅射法最大的优势是它的沉积速率快,具有可观的成膜效率和经济