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在该论文工作中,运用直流磁控溅射镀膜方法获得了表面沉积Ti、Cr金属薄膜的多刚石和石墨样品;进行了一系列不同温度、不同时间的真空热处理;运用俄歇电子能谱深度剖析和线形分析的方法,进行了界面化学反应产物、界面扩散反应动力学及真空热处理条件的影响等的研究.俄歇电子能谱,特别是俄歇线分析是进行金刚石、石墨金属化及界面扩散反应研究的有效方法.