光学材料超光滑表面抛光的研究

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该文主要对光学材料无磨料低温抛光的理论和实验进行了深入的研究.光学材料广泛应用于光学仪器关键件、激光、航空航天、空间天体探测等尖端科技领域,所以对表面粗糙度有严格的要求.该文提出了可使光学材料获得超光滑表面的一种方法――无磨料低温抛光.它是用水冻成冰盘来替代传统的抛光盘,在高速抛光机上对工件表面进行抛光.该文对光学材料无磨料低温抛光的机理进行了研究,指出这种抛光是在塑性域的加工,是一种弹塑性变形的过程,建立了考虑表面力情况下的光滑平面与粗糙峰相接触的数学模型,并利用数理统计方法,最后得到了工件表面形貌在抛光过程中的变化规律;通过对工件上的点的运动分析,得到了不同参数对抛光均匀性的影响,以及不同的参数对抛光过程中振动的影响规律;对无磨料低温抛光这种新工艺进行了系统的研究,包括冰盘的制备、工件盘的制备、抛光前对冰盘的修整、抛光后工件的清洗及表面粗糙度的测量等;在不同的参数条件下,对最常用的两种光学材料k9玻璃和石英玻璃进行了无磨料低温抛光的实验研究,表明冰盘水质对抛光结果有重要的影响,去离子水冻成的冰盘抛光效果最好,对k9玻璃,得到了Ra0.18nm,石英玻璃Ra0.53nm的超光滑表面.总之,无磨料低温抛光是使光学材料获得原子级超光滑表面的一种新方法.有着广阔的应用前景.
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