【摘 要】
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该论文首先介绍了化学气相淀积(CVD)金刚石薄膜的优点、用途,CVD金刚石薄膜的历史和淀积方法,CVD金刚石的原理.论述了CVD金刚石薄膜的成核机理和生长过程,其与衬底材料与淀积
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该论文首先介绍了化学气相淀积(CVD)金刚石薄膜的优点、用途,CVD金刚石薄膜的历史和淀积方法,CVD金刚石的原理.论述了CVD金刚石薄膜的成核机理和生长过程,其与衬底材料与淀积条件的关系也做了一定的阐述.对金刚石薄膜以后的发展趋势和此相关的淀积方式进行了分析,根据自己现有条件决定用热丝辅助RF CVD方式进行实验,以实现大面积淀积的目的.对现有低温RF淀积台设备中气体流量控制电路、气路以及反应腔均做了较为详细的剖释,并提出改进方案.流量控制阀的校对和选择以及密封性的恢复是气体流量控制部分改造的主要工作;设计制作了一些部件替代淀积台部分的原先不合理的气路构件和管路,使这真空度基本达到要求.同时在不破坏原设备的情况下,在反应腔内实现了加热和热分解部分的引线连接,并且把用来分解气体的热丝以一定的形式固定在反应腔内.之后进行淀积实验.最后该论文对以后的实验方式提出了一些建议.
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