【摘 要】
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调制光谱术是光谱技术的一个重要组成部分,在材料的物理和光学性质分析中具有重要作用.作为调制光谱大家族的一名新成员,差分反射光谱技术成为半导体材料性质分析的有效手段.
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调制光谱术是光谱技术的一个重要组成部分,在材料的物理和光学性质分析中具有重要作用.作为调制光谱大家族的一名新成员,差分反射光谱技术成为半导体材料性质分析的有效手段.该文首先介绍了差分反射光谱技术的基本原理、发展历史及研究现状,然后重点阐述了差分反射测试系统的组成、建立及其工作原理,报道了利用该测试系统开展的半导体多量子阱差分反射光谱研究,GaAs/Si半导体单层异质外延膜干涉差分光谱研究,表面均匀性较好的GaAs体材料压力差分反射光谱研究,描述了实验方法及细节.利用差分反射光谱观测到了多量子阱材料丰富的量子化跃迁,并与理论计算、光调制反射光谱实验结果进行了比较;探讨了干涉差分光谱的产生机理,利用干涉差分光谱研究了半导体异质外延膜的光学非均匀性;通过引入非均匀应力,获得了均匀GaAs体材料的压力差分反射光谱,清楚地观测到了材料在基本吸收区的E<,0>及E<,0>+Δ<,0>光学带间跃迁结构.论文最后对差分反射技术的应用前景作了展望.
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