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本文论述了化学镀的发展历史与现状,并分别对酒石酸、柠檬酸、乳酸、苹果酸、谷氨酸、甘氨酸进行了单因素实验,研究了其浓度变化对镀速的影响,获得了各络合剂浓度与镀速的对应关系。在此基础上,依据化学镀镍的相关理论,采用正交实验法设计了柠檬酸-谷氨酸、酒石酸-谷氨酸、苹果酸-谷氨酸、酒石酸-谷氨酸-丙酸等多络合剂的化学镀液配方,以镀速、自腐蚀电位为主要参考指标,兼顾孔隙率、磷含量,通过实验,确定了三种综合性能较好的配方,其组分、工艺及性能依次为：配方A：六水合硫酸镍：40g/L,一水合次亚磷酸钠：20g／L,酒石酸：15g/L,谷氨酸钠：31g/L,温度T=86℃,pH=6.5,镀速v=10gm／h,自腐蚀电位Ecorr=-550mV,孔隙率为：2／cm2,磷含量约为：3wt%；配方B：六水合硫酸镍：40g/L,一水合次亚磷酸钠：25g/L,柠檬酸三钠：18g/L,谷氨酸钠：20g/L，温度T=86℃,pH=5.5,镀速v=7μm／h,自腐蚀电位Ecorr=-430mV,孔隙率为：3／cm2,磷含量约为：9wt%；配方C：六水合硫酸镍：20g/L,一水合次亚磷酸钠：40g/L,酒石酸：20g/L,谷氨酸钠：28g/L,温度T=84℃,pH=5.8,镀速v=8μm／h,自腐蚀电位Ecorr=-293mV,孔隙率为：2／cm2,磷含量约为：11 wt%。以厚度比和电位差为因素,按照全正交的原则复配了不同的双层镀层,并采用腐蚀膏法检测其耐蚀性。结果表明,在外层采用低电位层电位为-550mV,内层为采用高电位层电位为-295mV,内外厚度比16μm：8μm时,双层的耐蚀性最好,在第三个周期的腐蚀实验中,基体的腐蚀情况等级仍在8级以上,镀层的腐蚀等级则在4级以上。本文在Gugliemi两步吸附的共沉积机理和葛明德的化学镀复合共沉积模型的基础上,基于Byod的竞争吸附理论,建立了关于Ni-P/PTFE镀层的竞争型两步吸附共沉积模型。通过改变PTFE乳液与FC-4氟碳表面活性剂的比例与用量,本文进行了六组Ni-P/PTFE的共沉积实验,并用OCA-20接触角测试仪测定了Ni-P/PTFE镀层对去离子水的接触角,结果表明,当PTFE乳液浓度为12.96 ml/L,FC-4氟碳表面活性剂为1.5ml／L时,镀层与去离子水的接触角最大为：128°；对该工艺进行的结垢实验表明该镀层具有良好的阻垢性能。最后,利用本文中提出的竞争型两步吸附共沉积模型,对Ni-P/PTFE复合镀层中实验现象进行了解释,结果表明,在本文中提出的理论模型与实验结果有较好的一致性。