TiO<,2>薄膜的磁控溅射制备及其性能研究

来源 :云南大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:supercamel1987
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该文着重研究了TiO<,2>薄膜的磁控溅射制备的工艺及所得薄膜的光催化超亲水性和有关光学特性.编制开发了用于TP-77型椭圆偏振测厚仪的程序;通过XRD、TEM、FT-IR、UV-Vis双光束分光光度计、TP-77型椭圆偏振测厚仪、电子探针及接触角测量仪等等多种检测方法,研究了制备条件对TiO<,2>薄膜的结构、形貌及薄膜厚度的影响,得出纳米TiO<,2>粒子大小、形状、晶型、薄膜厚度等结构因素与制备条件溅射电压、溅射时间等之间的关系,根据线性回归分析,给出了溅射速率;用正交实验法,合理安排影响溅射状态的诸多因素,经实验研究,得出制备各种性能良好薄膜的较佳溅射制备参数.对薄膜的超亲水特性、光催化特性进行了研究,并给予了一定的理论解释;通过薄膜光学理论和实验测量,计算出磁控溅射制备的TiO<,2>薄膜的各项光学性质参数:色散曲线、吸收系数曲线、消光系数曲线、反射率曲线、复介电常数、TiO<,2>薄膜的禁带宽度及间接带隙宽度.
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