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可录及相变光盘膜层设计、光学参数测量及动态存储性能研究
可录及相变光盘膜层设计、光学参数测量及动态存储性能研究
来源 :中国科学院上海光学精密机械研究所 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zbgqx123456
【摘 要】
:
该论文以可录光盘(CD-R)及可擦重写相变光盘(CD-RW)的膜层设计、相关存储介质的光学参数测量和光盘动态存储性能测试三个重要方面为对象进行研究工作.
【作 者】
:
李晶
【机 构】
:
中国科学院上海光学精密机械研究所
【出 处】
:
中国科学院上海光学精密机械研究所
【发表日期】
:
1999年期
【关键词】
:
可录光盘
相变光盘
膜层设计
薄膜
光学常数
椭偏仪
p-偏振光双面反射法
动态存储性能
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该论文以可录光盘(CD-R)及可擦重写相变光盘(CD-RW)的膜层设计、相关存储介质的光学参数测量和光盘动态存储性能测试三个重要方面为对象进行研究工作.
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