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5. 磁场强度和沉积气压对高功率脉冲磁控溅射TiN薄膜性能的影响

磁场强度和沉积气压对高功率脉冲磁控溅射TiN薄膜性能的影响

来源 :第五届全国工业等离子体会议暨第五届高离化磁控多弧技术研讨会及第二届 PVD 企校合作高层论坛 | 被引量 : 0次 | 上传用户：z987z654z123

【作 者】

：

李延涛 吴建 冷永祥 

【机 构】

：

西南交通大学材料科学与工程学院,材料先进技术教育部重点实验室,四川成都,610031

【出 处】

：

第五届全国工业等离子体会议暨第五届高离化磁控多弧技术研讨会及第二届 PVD 企校合作高层论坛

【发表日期】

：

2017年12期

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