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Preparation of the TiO2 Thin Film by the Sputtering Film Using Powder Material Target
【机 构】
：
Sasebo National College of Technology,1-1 Okishin,Sasebo,Nagasaki 857-1193,Japan
【出 处】
：
The 8th Asian-European International Conference on Plasma Su
【发表日期】
：
2011年期
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