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Gas Barrier Properties of SiON Films Deposited as a Function of the Plasma Process Parameters at Low
【机 构】
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Center for Advanced Plasma Surface Technology,Sungkyunkwan University,300 ChunChun-dong,Jangan-gu,Su
【出 处】
：
The 8th Asian-European International Conference on Plasma Su
【发表日期】
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2011年期
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