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Ｆｏｗｌｅｒ－Ｎｏｒｄｈｅｉｍ隧道电子注入对Ａｒ－Ｏ＃-[2]热生长Ｓｉ＃-[2]薄膜陷阱的影响
【机 构】
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北京大学
【出 处】
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第四届全国固体薄膜学术会议
【发表日期】
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1994年期
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