【摘 要】
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本文将粒子输运的蒙特卡罗方法与器件数值模拟的有限体积法相耦合来模拟典型MOS管的长期辐射效应。使用漂移扩散模型来描述二氧化硅中的陷阱电荷及硅中的自由电子和空穴
【出 处】
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第十一届全国蒙特卡罗方法及其应用学术交流会
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本文将粒子输运的蒙特卡罗方法与器件数值模拟的有限体积法相耦合来模拟典型MOS管的长期辐射效应。使用漂移扩散模型来描述二氧化硅中的陷阱电荷及硅中的自由电子和空穴。入射粒子的能量沉积作为源项耦合至漂移扩散模型方程，并根据有限体积法得到控制方程的离散格式。使用该方法模拟了MOS管受射线粒子辐照后的阈值电压漂移与关态漏电流现象，结果与文献符合较好。
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