新型SBA-15修饰MALDI-TOF-MS基质的合成及应用

来源 :中国化学会第七届全国仪器分析及样品预处理学术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：Yxiaowanzi

【摘要】

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本文通过将介孔材料SBA-15与传统基质CHCA及3-氨丙基三乙氧基硅烷(3-APTES)形成的离子液体共价结合,合成了一种新型改性含硅材料基质([CHC-] [NH3+-Si-SBA-15-Si-NH3+] [CHC-

【作者】

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周焕英苏璇陈风春刘忠文李双高志贤

【机构】

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军事医学科学院卫生学环境医学研究所,天津,300050

【出处】

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中国化学会第七届全国仪器分析及样品预处理学术研讨会

【发表日期】

：

2013年8期

【关键词】

：

辅助激光解吸电离飞行时间质谱合成工艺介孔材料

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本文通过将介孔材料SBA-15与传统基质CHCA及3-氨丙基三乙氧基硅烷(3-APTES)形成的离子液体共价结合,合成了一种新型改性含硅材料基质([CHC-] [NH3+-Si-SBA-15-Si-NH3+] [CHC-]).该基质在分析时不仅能够有效的促进分析物的离子化,而且大大降低的基质对小分子测定物质的影响,具有广泛的适用性.

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