实时椭偏术及其在薄膜生长过程中的应用

来源 :2009年中国计量测试学会光辐射计量学术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ct_1984tao1
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基于旋转器件的多通道椭偏仪的设计使得它们可以用于诸如原位、实时等薄膜以及表面的分析。利用叠加光源组合可将光谱上限扩展至6.5 eV的远紫外波段。双旋转补偿器椭偏仪改变了入射以及反射光的偏振态,不仅可以得到传统椭偏角(ψ,△),还可以得到反射光束的斯托克斯矢量。因此这可以提供光束截面上样品厚度变化信息,并可减小多重散射光效应,从而可以分析非均匀以及宏观粗糙表面。这些进展可用于平板显示技术中硅薄膜生长厚度演化的研究。
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