【摘 要】
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利用乙酸锌(Zn(AC)2·H2O)、硒粉(Se)、硼氢化钠(NaBH4)作为反应原料，通过简单的控制亚硫酸铁(FeSO4·7H2O)含量，将水/曲拉通X-100/异丙醇/环己烷组成的反微乳液在120 oC水热条件下制备出了结晶性良好的Fe2+离子掺杂的ZnSe纳米晶(ZnSe∶Fe).利用X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、紫外-可见吸收光谱(UV-vis)、荧光发射光谱(PL)和F
【机 构】
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四川大学材料科学与工程学院,四川成都610064
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利用乙酸锌(Zn(AC)2·H2O)、硒粉(Se)、硼氢化钠(NaBH4)作为反应原料，通过简单的控制亚硫酸铁(FeSO4·7H2O)含量，将水/曲拉通X-100/异丙醇/环己烷组成的反微乳液在120 oC水热条件下制备出了结晶性良好的Fe2+离子掺杂的ZnSe纳米晶(ZnSe∶Fe).利用X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、紫外-可见吸收光谱(UV-vis)、荧光发射光谱(PL)和FT-IR来表征和分析这种纳米晶材料的形貌、微观结构和形成机制.XRD结果表明所合成样品均为ZnSe闪锌矿立方相结，并通过谢乐(Scherrer)公式计算出其晶粒大小.TEM表明反微乳液经过水热处理后，可得到直径大约为6.5 nm的近似单分散的ZnSe∶Fe球状纳米晶.而Fe2+离子以填隙掺杂方式进入ZnSe后，可改变纳米颗粒的生长速度，从而影响其光学特性.
其他文献
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目前对激光损伤中的非线性温升过程尚未给出清楚解释,本文通过实验和理论两个方面的分析,对影响薄膜损伤阈值的非线性温升过程进行解释,建立描述紫外激光薄膜非线性温升发生和发展的模型。同时给出8 ns,355nm激光在10 J/cm2能量密度辐照下,单层氧化铪薄膜的消光系数和温升变化的模拟。该模型对纳秒激光作用下薄膜的破坏过程有了进一步认识,给制备高损伤阈值的紫外激光薄膜提供了方向。
采用双离子束溅射(DIBS)工艺制备了Ta2O5/SiO2和Nb2O5/SiO2两种800 nm45°宽带p光高反镜。利用中心波长800 nmCPA系统分别输出40 fs和300 ps的p偏振光,对样品表面激光损伤行为进行研究。结果表明,在两种脉宽激光辐照下,Ta2Os/SiO2样品的单脉冲损伤阈值均比Nb2O5/SiO2样品高约20％。在40fs激光作用下,样品表现出本征的场诱导破坏特性；而在3
利用扫描电子显微镜、沥青针入度仪、同步热分析仪、沥青软化点测试仪和沥青粘度测试仪对不同组分含量四种光学沥青抛光胶的形貌、针入度、玻璃化转变温度、软化点和粘度等参量进行了表征，并从组成和结构分析了抛光胶玻璃态、高弹态和粘流态三种力学状态变化原因和临界转变温度。分析发现，随着温度升高(19℃～24 ℃)，四种抛光胶的针入度数值缓慢增大，达到一定温度后，针入度数值开始指数增大；采用差示扫描量热法测得抛光
紫外355nm波长已经非常接近常见介质薄膜材料的吸收截止边,这样在激光作用下薄膜材料的本征吸收和非线性吸收效应增加,使得薄膜更容易受到破坏,激光损伤阈值更低。在355nm波段下能应用的薄膜材料较少,概况来说主要分为两类：氟化物和氧化物。本文主要研究了以氟化镧/氟化铝(LaF3/AlF3)组合为代表的氟化物355nm介质反射膜,以氧化铝/氧化硅(Al2O3/SiO2)和氧化铪/氧化硅(HfO2/Si
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随着现代科学技术的不断发展，对于光学元件的表面质量提出了越来越多的要求。研磨抛光是超精密加工的重要手段，现有文献的研究工作主要集中在磨粒的运动轨迹以及被抛光元件抛光之后表面均匀性的研究，在设计加工过程中还需要了解抛光盘在不同的位置对于被抛光元件面形的影响，以便加工过程中对抛光盘位置的调整以得到需要的面形。本文主要介绍了一种双轴式平面研磨抛光的运动过程分析，从Preston方程出发，推导了该抛光方式
为了验证串音饱和现象对激光辐照CCD系统产生的干扰效果，从理论上给出了单激光辐照CCD系统发生串音饱和时的物理模型(入射光斑分为大光斑和小光斑)和有干扰光存在时CCD系统发生串音饱和时的物理模型，得到了激光入射能量密度与CCD饱和面积的关系曲线及具体数据；且进行了He-Ne激光干扰面阵CCD探测器系统的实验研究，并给出了双激光束的饱和串音的实验数据。结果表明：建立的饱和串音模型基本符合实际情况，较
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