【摘 要】
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随着现代科学技术的不断发展，对于光学元件的表面质量提出了越来越多的要求。研磨抛光是超精密加工的重要手段，现有文献的研究工作主要集中在磨粒的运动轨迹以及被抛光元件抛光之后表面均匀性的研究，在设计加工过程中还需要了解抛光盘在不同的位置对于被抛光元件面形的影响，以便加工过程中对抛光盘位置的调整以得到需要的面形。本文主要介绍了一种双轴式平面研磨抛光的运动过程分析，从Preston方程出发，推导了该抛光方式
【机 构】
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四川大学电子信息学院,四川成都610064 中国科学院光电技术研究所,四川成都610209
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随着现代科学技术的不断发展，对于光学元件的表面质量提出了越来越多的要求。研磨抛光是超精密加工的重要手段，现有文献的研究工作主要集中在磨粒的运动轨迹以及被抛光元件抛光之后表面均匀性的研究，在设计加工过程中还需要了解抛光盘在不同的位置对于被抛光元件面形的影响，以便加工过程中对抛光盘位置的调整以得到需要的面形。本文主要介绍了一种双轴式平面研磨抛光的运动过程分析，从Preston方程出发，推导了该抛光方式下的去除函数表达式，并研究了抛光盘摆幅及偏心距离对去除量分布的具体影响。通过定量计算得知，在加工转速不变的情况下，增大抛光盘的摆幅，被抛光元件不同圆周上去除量的变化不同，增大偏心距被抛光元件不同圆周上的去除量呈增加趋势。
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激光除漆具有操作方便，效率高和效果好等优点。但除漆物理过程非常复杂，涉及到热学、力学以及激光等离子体效应等，而且激光烧蚀过程与周围环境密不可分。本文分别研究空气中和水环境对激光除漆效果的影响。研究表明：在相同的激光脉冲辐照条件下，空气中除漆时，产生的热学效应最为明显，金属基底的温升远大于油漆，热张力是的油漆产生的大面积的脱落；在水环境时，油漆去除特点主要是在聚焦附件的小范围去除，其主要成因是水会使
采用LD端面泵浦的平-凹腔方式研究2.2at.％Yb3+掺杂的Ca3La2(BO3)4晶体的激光性能.在脉冲激光泵浦模式下,输出镜片的透过率为3％,占空比20％,腔长17mm,在1033nm处实现了1.7W的准连续激光输出,阈值为2.35W,光光转换效率为17.4％,斜率效率为27.8％.相同的谐振腔条件,连续激光泵浦下输出的连续激光阈值为1.48W,光光转换效率为9.8％,斜率效率为14.3％.
光波导是集成光子学的基本元件。载能离子束是材料改性的重要手段。激光光学晶体是重要的激光增益介质。通过多种载能离子束技术(包括离子注入、快重离子辐照、聚焦离子束写入等)诱导激光晶体材料特定区域的晶格变化，进而引起折射率改变，可以形成各种光波导结构。这些波导结构同时保持了激光晶体材料本身的优良性质。在适当的泵浦条件下，可以在离子辐照制备的激光晶体光波导中实现波导激光。本文将综述有关载能离子束辐照的激光
为了使表面己损伤的熔石英光学元件在更高的激光通量下能够继续工作，采用CPA飞秒激光系统对损伤点进行了修复。利用时域有限差分方法(FDTD)模拟不同形状修复点的电场分布，从而确定最优化的修复结构。通过改变飞秒激光的脉冲能量、样品台的移动模式(速度、移动距离和间距)等工艺参数来控制修复点的形状、尺寸与深度。结果表明：经飞秒激光修复后，修复点激光损伤生长阈值得到了提高。另外，借助光学显微镜及扫描电镜(S
目前对激光损伤中的非线性温升过程尚未给出清楚解释,本文通过实验和理论两个方面的分析,对影响薄膜损伤阈值的非线性温升过程进行解释,建立描述紫外激光薄膜非线性温升发生和发展的模型。同时给出8 ns,355nm激光在10 J/cm2能量密度辐照下,单层氧化铪薄膜的消光系数和温升变化的模拟。该模型对纳秒激光作用下薄膜的破坏过程有了进一步认识,给制备高损伤阈值的紫外激光薄膜提供了方向。
采用双离子束溅射(DIBS)工艺制备了Ta2O5/SiO2和Nb2O5/SiO2两种800 nm45°宽带p光高反镜。利用中心波长800 nmCPA系统分别输出40 fs和300 ps的p偏振光,对样品表面激光损伤行为进行研究。结果表明,在两种脉宽激光辐照下,Ta2Os/SiO2样品的单脉冲损伤阈值均比Nb2O5/SiO2样品高约20％。在40fs激光作用下,样品表现出本征的场诱导破坏特性；而在3
利用扫描电子显微镜、沥青针入度仪、同步热分析仪、沥青软化点测试仪和沥青粘度测试仪对不同组分含量四种光学沥青抛光胶的形貌、针入度、玻璃化转变温度、软化点和粘度等参量进行了表征，并从组成和结构分析了抛光胶玻璃态、高弹态和粘流态三种力学状态变化原因和临界转变温度。分析发现，随着温度升高(19℃～24 ℃)，四种抛光胶的针入度数值缓慢增大，达到一定温度后，针入度数值开始指数增大；采用差示扫描量热法测得抛光
紫外355nm波长已经非常接近常见介质薄膜材料的吸收截止边,这样在激光作用下薄膜材料的本征吸收和非线性吸收效应增加,使得薄膜更容易受到破坏,激光损伤阈值更低。在355nm波段下能应用的薄膜材料较少,概况来说主要分为两类：氟化物和氧化物。本文主要研究了以氟化镧/氟化铝(LaF3/AlF3)组合为代表的氟化物355nm介质反射膜,以氧化铝/氧化硅(Al2O3/SiO2)和氧化铪/氧化硅(HfO2/Si
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