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挑战特征线宽<100nm的半导体设备
挑战特征线宽<100nm的半导体设备
来源 :第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:aifeideyuo0O
【摘 要】
:
目前一个庞大的半导体设备产业,支撑着快速发展并走向极限的半导体产业.在进入新千年的时候,半导体技术即将跨越特征线宽100nm技术节点的时候,半导体设备厂商已在积极进行研
【作 者】
:
董大为
【机 构】
:
北京建中机器厂(北京)
【出 处】
:
第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会
【发表日期】
:
2001年期
【关键词】
:
特征线宽
半导体设备
商品化产品
半导体技术
产业
大生产
支撑
节点
厂商
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目前一个庞大的半导体设备产业,支撑着快速发展并走向极限的半导体产业.在进入新千年的时候,半导体技术即将跨越特征线宽100nm技术节点的时候,半导体设备厂商已在积极进行研发,赶在大生产来临之前提供商品化产品.本文就一些关键问题作一介绍.
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