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本文采用射频磁控溅射方法制备AZO/Ag/AZO复合膜，利用紫外可见红外分光光度计和四探针测试仪,研究AZO膜制备工艺(沉积气压、射频溅射功率、氧流量和ZnO靶材的Al2O3掺杂浓度)对AZO/Ag/AZO复合膜光电性能的影响，得出优化的复合膜制备工艺。优化后的复合膜品质因子比普通AZO单层膜的品质因子高出了一个数量级，约为1.7×10-2Ω-1。