InAsxP1-x渐变缓冲层及热光伏电池MOCVD生长研究

来源 :第十二届全国固体薄膜会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xx123999
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本文研究了MOCVD技术在InP衬底生长的晶格失配的InGaAs热光伏电池材料和不同组分的InAsxPl-x(x=7.62~32.5)外延层。通过优化InAsxPl-x缓冲层结构,在InP上建立了与In0.68Ga0.32As晶格匹配的“虚拟”衬底,使应力完全弛豫在缓冲层内,消除InP与In0.68Ga0.32As的1.3%晶格失配。利用高分辨X射线衍射及TEM等手段进行测试分析,结果表明利用InAsxPl-x缓冲层作为“虚拟”衬底在红外光电器件不和高速Ⅲ-Ⅴ族器件中是非常有应用前景的。
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