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该文选取合适的化学及水力学工艺条件，制备出了高密度、高比能量、能大倍率充放电的镀钴球镍产品。并利用XRD、SEM和DTA/TGA等现代分析技术对样品进行了分析，从晶体结构的层次上分析了镀钴工艺参数对镀钴效果的影响，SEM分析结果表明，得到的镀层均匀、稳定，且镀层的厚度约为200nm，镀层内钴的含量也可以得到精确控制；由XRD分析知道镀层内含有稳定的α-Ni(OH)<,2>.DTA/TGA分析的结果表明，镀钴量对样品的脱水量没有影响，且镀层中的钴在升温过程中有氧化现象。