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采用控电位沉积方式在ｐ－Ｓｉ上制备了Ｎｉ－Ｐｄ合金薄膜，考察了阴极沉积行为，研究了电沉积条件对膜组成的影响，并探讨了膜组成与结构的关系。ＸＲＤ测试表明Ｎｉ－Ｐｄ合金呈面心立方的固溶体结构，其晶面间距随合金组成不同而变化。
P型Si上Ni-Pd薄膜的电沉积及XRD研究
【摘 要】
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采用控电位沉积方式在ｐ－Ｓｉ上制备了Ｎｉ－Ｐｄ合金薄膜，考察了阴极沉积行为，研究了电沉积条件对膜组成的影响，并探讨了膜组成与结构的关系。ＸＲＤ测试表明Ｎｉ－Ｐｄ合金呈面心立方的固溶体结构，其晶面间距随合
【机 构】
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大学应用化学系
【出 处】
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中国机械工程学会第五届全国电镀与精饰学术年会
【发表日期】
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1997年期
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