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基于标准的接触式光刻工艺，利用扩散片将平行照射的紫外光散射，制备了宽度为4μm～15μm的凹槽，具有半圆弧、双圆弧以及工形等截面结构和良好的形貌。详细研究了曝光时间和凹槽宽度对凹槽截面形态的影响。给出了不同横截面图形的制备工艺参数。
SU-8扩散片光刻工艺研究
【摘 要】
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基于标准的接触式光刻工艺，利用扩散片将平行照射的紫外光散射，制备了宽度为4μm～15μm的凹槽，具有半圆弧、双圆弧以及工形等截面结构和良好的形貌。详细研究了曝光时间和凹
【机 构】
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东南大学电子科学与工程学院,江苏 南京 210096
【出 处】
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第七届全国塑料光纤与聚合物光子学会议
【发表日期】
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2011年期
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