聚合物光波导刻蚀表面散射损耗的研究

• 作 者: 张琨 孟杰 王辉 刘天际 李彤 孙小强 张大明
• 机 构: 集成光电子学国家重点联合实验室 吉林大学实验区,吉林大学电子科学与工程学院,长春 130012
• 出 处: 第七届全国塑料光纤与聚合物光子学会议
• 发表日期: 2011年期
• 关键词: 聚合物光波导 离子刻蚀技术 表面粗糙度 等离子体刻蚀 甲基丙烯酸环氧丙酯 聚甲基丙烯酸甲酯 感应耦合等离子体 原子力显微镜

　　本文选取聚甲基丙烯酸甲酯。甲基丙烯酸环氧丙酯(P(MMA-GMA))作为波导材料，利用有效折射率法计算了倒脊形波导单模传输条件，根据Tien理论分析了散射损耗与等离子体刻蚀后薄膜表面粗糙度的关系，利用原子力显微镜表征了感应耦合等离子体刻蚀技术(ICP)和反应离子刻蚀技术(RIE)对薄膜表面平整度的不同影响。实验结果表明，利用ICP刻蚀技术可以降低刻蚀表面粗糙度，减小由于散射导致的波导光损耗。