优先暴露(002)高活性晶面的多层三氧化钨电极在光催化水分解中的应用

• 作 者: 张冀杰;张鹏;王拓;巩金龙;
• 机 构: 天津大学化工学院 天津化学化工协同创新中心 天津市南开区卫津路92号,300072
• 出 处: 第十四届全国太阳能光化学与光催化学术会议
• 发表日期: 2014年期

　　近些年来，三氧化钨(WO3)以其2.7～2.8eV的适宜禁带宽度、自身抗光腐蚀的特性，已经被广泛利用于光催化体系中[3].本文采用溶剂热的方法，在FTO导电玻璃上生长了纳米多层结构的WO3薄膜层.我们用X射线衍射、光电流-电压曲线等方式对样品进行表征.发现其选择性暴露了大量高活性的(002)晶面，使其光催化效率大大提高[5].