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Ｓｉ<,3>Ｎ<,4>硬质陶瓷薄膜的ＥＣＲ－ＰＥＣＶＤ研制
【机 构】
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科学院等离子体物理研究所
【出 处】
：
95等离子体与材料表面改性学术讨论会
【发表日期】
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1995年期
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