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采用阴极磁控溅射制备用于电磁屏蔽的ITO透明导电膜,方块电阻在5～40Ω□范围内.测试不同方块电阻膜层的电阻率、膜厚、可见光透光度、雾度、对8～18GHz频率范围内电磁波的反射率等性能,通过X射线衍射图谱和X射线回摆曲线研究膜层的结晶程度和晶粒大小对膜层性能的影响,引入特性优化因子来综合评价膜层的性能.