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该文用X—射线光电子能谱（XPS）研究了不同方法制备的CuO/ZnO催化剂，并以Cu/Zn，O/Cu＋Zn、O/Zn原子比的形式表征了在焙烧、还原过程中催化剂表面状态的变化，以及反应前后Cu/ZnO催化剂表面状态的差别，提出了可能引起这些变化的原因。（本刊录）
用XPS方法研究CuO/ZnO催化剂的表面特征
【摘 要】
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该文用X—射线光电子能谱（XPS）研究了不同方法制备的CuO/ZnO催化剂，并以Cu/Zn，O/Cu＋Zn、O/Zn原子比的形式表征了在焙烧、还原过程中催化剂表面状态的变化，以及反应前后Cu/ZnO催化剂
【机 构】
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吉林化学工业公司研究院
【出 处】
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全国电子能谱学术报告会
【发表日期】
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1985年期
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