离化增强的脉冲阴极弧沉积TiCN薄膜结构和性能研究

• 作 者: 马英鹤 孔营 吴明忠 胡健 巩春志 田修波
• 机 构: 先进焊接与连接国家重点实验室 哈尔滨工业大学 哈尔滨 150040
• 出 处: 第十二届国际真空冶金与表面工程学术会议(ICVMSE2015)
• 发表日期: 2015年期
• 关键词: 增强 脉冲 阴极弧 沉积 TiCN薄膜 组织结构 等离子体密度 工作气压

　　研制了新型的脉冲阴极弧用于增强空间等离子体密度,取得了较好的实验效果.与直流阴极弧相比,利用脉冲阴极弧技术可以提高等离子体密度并将基体获得电流提高5-6 倍,TiCN 薄膜显微硬度由1075HV0.1 提高到1616HV0.1,膜基结合力等级由H5～H6 提高到H3 以上.鉴于上述结果,分别采用直流阴极弧和脉冲阴极弧在不同的工作气压下制备TiCN 薄膜,重点研究了工作气压对TiCN 薄膜组织结构和力学性能的影响.