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铜基碳纳米管复合电镀工艺研究初步
铜基碳纳米管复合电镀工艺研究初步
来源 :2005(第四届)中国纳米科技西安研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:kruotreo
【摘 要】
:
本文运用复合电镀工艺实现碳纳米管与铜基的复合,并围绕碳纳米管在镀液及镀层中的分散性进行讨论,力图解决一些现有研究中的缺陷,制备出结合紧密,界面良好,碳纳米管均匀
【作 者】
:
王裕超
丁桂甫
吴惠箐
【机 构】
:
上海交通大学微纳科学技术研究院,上海,200030
【出 处】
:
2005(第四届)中国纳米科技西安研讨会
【发表日期】
:
2005年期
【关键词】
:
铜基
碳纳米管
复合电镀工艺
弥散分布
复合镀层
分散性
电接触
运用
应用
外观
图解
缺陷
潜力
界面
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本文运用复合电镀工艺实现碳纳米管与铜基的复合,并围绕碳纳米管在镀液及镀层中的分散性进行讨论,力图解决一些现有研究中的缺陷,制备出结合紧密,界面良好,碳纳米管均匀复合,弥散分布,外观平整均匀,有直接应用潜力的电接触复合镀层。
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