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ＩＢＥＤ Ｓｉ<,3>Ｎ<,4>和ＴｉＮ薄膜的成份、结构与摩擦学性能

来源 :’94秋季中国材料研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：lianlianforever

【作 者】

：

庄大明 张绪寿 

【机 构】

：

清华大学摩擦研究所

【出 处】

：

’94秋季中国材料研讨会

【发表日期】

：

1994年期

【关键词】

：

薄膜 成份 结构 

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