Morphology of Nano TiO2 Thin Films Controlled by Plasma Chemical Vapor Deposition System

来源 :等离子体催化与能源材料应用研讨会(ISPCEM2012) | 被引量 : 0次 | 上传用户：fxlilac

【摘要】

：

Plasma Chemical Vapor Deposition (PCVD) is an important technique for surface modification of deposited thin films.The effects of process variables on the precu

【作者】

：

Hoang HaiNguyen Kyo-Seon Kim

【机构】

：

DepartmentofChemicalEngineeringKangwonNationalUniversityChuncheon,Kangwon-Do,200-701,Korea

【出处】

：

等离子体催化与能源材料应用研讨会(ISPCEM2012)

【发表日期】

：

2012年9期

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Plasma Chemical Vapor Deposition (PCVD) is an important technique for surface modification of deposited thin films.The effects of process variables on the precursor decomposition,deposition rate and properties of TiO2 films by PCVD of titanium tetra-isopropoxide (TTIP) have been investigated.

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