热压氮化硅结构陶瓷的研究

• 作 者: 李凤梅;管葆青;
• 机 构: 航空材料研究所先进复合材料国防科技重点实验室
• 出 处: 第九届全国特种陶瓷学术年会
• 发表日期: 1996年期
• 关键词: 氮化硅 陶瓷 力学性能 抗热震

着重研究了Ｙ〈，２〉Ｏ〈，３〉与Ｌａ〈，２〉Ｏ〈，３〉间的配比和（Ｙ〈，２〉Ｏ〈，３〉＋Ｌａ〈，２〉Ｏ〈，３〉）ｗｔ℅的含量对热压Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉陶瓷结构及性能的影响。对最优助剂含量及配比的热压Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉试样进行了氧化行为及抗热震性的研究。研究发现当Ｙ〈，２〉Ｏ〈，３〉：Ｌａ〈，２〉Ｏ〈，３〉＝１：１且（Ｙ〈，２〉Ｏ〈，３〉＋Ｌａ〈，２〉Ｏ〈，３〉）为２０ｗｔ℅时，σ〈，ｆ〉〈’１３５０℃〉最大为７１５ＭＰａ，（Ｙ〈，２〉Ｏ〈，３〉＋Ｌａ〈，２〉Ｏ〈，３〉）为１６ｗｔ℅时，Ｋ〈，ＩＣ〉〈’ＲＴ〉达最大值为７．８ＭＰａｍ〈’１／２〉，１１５０℃Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉材料经２００ｈ氧化处理，内部析出针状晶体。经１１００℃←→１００℃热循环后，强度下降的主要原因是裂纹产生和扩展。