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该文利用射频溅射技术制备了聚四氟乙烯和非晶态氮化硅结构的多层膜，所得多层膜的电阻率高于单一的氮化硅膜和单一的聚四氟乙烯膜的电阻率，氮化硅／聚四氟乙烯多层膜与单一的氮化硅膜相比，多层膜的硬度有所下降，而韧性得到明显提高。
射频溅射作用下氮化硅/聚四氟乙烯多层膜的结构和特性
【摘 要】
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该文利用射频溅射技术制备了聚四氟乙烯和非晶态氮化硅结构的多层膜，所得多层膜的电阻率高于单一的氮化硅膜和单一的聚四氟乙烯膜的电阻率，氮化硅／聚四氟乙烯多层膜与单一的氮化
【机 构】
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大学材料科学与工程系(北京)
【出 处】
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'96中国材料研讨会
【发表日期】
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1996年期
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