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Cu3N薄膜由于具有高电阻率，低热分解温度，在红外和可见光波段与Cu单质的反射率有明显的差别，使其在光学存储，高速集成电路以及太阳能电池领域有广泛的应用。由于Cu原子没有占据其(111)面的紧密堆积区域，如果其他原子填充到其体心位置处，将引起其电学和光学性能的显著变化。
反应磁控溅射金属掺杂Cu3N薄膜的制备及其特性的研究
【摘 要】
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Cu3N薄膜由于具有高电阻率，低热分解温度，在红外和可见光波段与Cu单质的反射率有明显的差别，使其在光学存储，高速集成电路以及太阳能电池领域有广泛的应用。由于Cu原子没有占据其(111)面的紧密堆积区域，如果其他原子填充到其体心位置处，将引起其电学和光学性能的显著变化。
【机 构】
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延边大学理学院物理系 133002
【出 处】
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中国物理学会2013年秋季学术会议
【发表日期】
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2013年11期
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