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制作0.1~0.15umT型栅,首先是考虑在频率高到一定程度时,如何减小Rgs对器件增益的影响,同时要考虑到负面效应,如栅帽顶大到一定程度,就会使Cgs增大,频率响应变差.研究0.1~0.15umT型栅形貌是本研究课题的重点.
0.1~0.15um T型栅工艺研究及应用
【摘 要】
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制作0.1~0.15umT型栅,首先是考虑在频率高到一定程度时,如何减小Rgs对器件增益的影响,同时要考虑到负面效应,如栅帽顶大到一定程度,就会使Cgs增大,频率响应变差.研究0.1~0.15
【机 构】
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中国电子科技集团公司第十三研究所
【出 处】
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第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会
【发表日期】
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2003年期
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