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采用RuO2-IrO2／Ti阳极和IrO2／Ti阴极、聚四氟乙烯隔膜和半连续板框式电解槽，在恒电压条件下研究了隔膜结构对N204电氧化合成N205过程的影响。结果表明，减小隔膜的孔径，有利于增大电流效率、减小比能。当隔膜孔径较低时，增加膜的厚度导致电解的电流效率降低、比能增加。当隔膜的孔径较高时，增加膜的厚度可提高电流效率、降低比能。对于电解合成N2O5过程而言，适宜的隔膜孔径是0．1μ m，适宜的隔膜厚度是60—150μ m之间。