【摘 要】
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采用化学溶液沉积法(MOD)制备PMNT薄膜.研究了Pt/Ti/SiO/Si及PZT/Pt/Ti/SiO/Si两种不同衬底对PMNT薄膜相结构及微结构的影响,深入分析了钙钛矿相PZT缓冲层对PMNT薄膜相结构及
【机 构】
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中国科学院上海硅酸盐研究所(上海)
【出 处】
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第四届中国功能材料及其应用学术会议
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采用化学溶液沉积法(MOD)制备PMNT薄膜.研究了Pt/Ti/SiO<,2>/Si及PZT/Pt/Ti/SiO<,2>/Si两种不同衬底对PMNT薄膜相结构及微结构的影响,深入分析了钙钛矿相PZT缓冲层对PMNT薄膜相结构及微结构的影响机制.PZT缓冲层有效抑制了PMNT薄膜制备中焦绿石相的形成,缓解了由于膜层内应力累积导致的膜层开裂.制备出结构致密、高度(100)取向的纯钙钛矿相PMNT薄膜,所制备PMNT薄膜显示出良好的介电及铁电性能(介电常数εr约为620,剩余极化值Pr约为5μC/cm<2>).
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