【摘 要】
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射频等离子体增强化学气相沉积法以其低沉积温度,高沉积速率,高成膜质量等优点得到了广泛的研究与应用.本文采用射频等离子体增强化学气相沉积法(Rf-PECVD),以WC靶作为溅射靶,C2H2为反应气体,通过调制溅射靶功率,在316不锈钢基体上制备了WC/a-C：H系列薄膜.用场发射电镜(FESEM)、AFM、透射电镜(HRTEM)、X射线衍射仪(XRD)、XPS、拉曼光谱对薄膜的微观结构和成分进行了表
【机 构】
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中国科学院宁波材料技术与工程研究所 中科院海洋新材料与应用技术重点实验室,浙江宁波 315201;昆明理工大学 材料科学与工程学院 云南昆明 650093
【出 处】
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第十一届全国表面工程大会暨第八届全国青年表面工程学术会议
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射频等离子体增强化学气相沉积法以其低沉积温度,高沉积速率,高成膜质量等优点得到了广泛的研究与应用.本文采用射频等离子体增强化学气相沉积法(Rf-PECVD),以WC靶作为溅射靶,C2H2为反应气体,通过调制溅射靶功率,在316不锈钢基体上制备了WC/a-C：H系列薄膜.用场发射电镜(FESEM)、AFM、透射电镜(HRTEM)、X射线衍射仪(XRD)、XPS、拉曼光谱对薄膜的微观结构和成分进行了表征,用UMT-3MT多功能摩擦机、Revetest划痕测试系统、表面轮廓仪、电化学工作站对薄膜的摩擦学性能和腐蚀性能进行了分析.结果 显示,W-C主要以β-WC1-x纳米晶的形式均匀分布在非晶碳中,随着溅射靶功率的上升,薄膜中W含量、膜基结合力呈上升趋势,而SP3-C含量、硬度逐渐降低.当溅射靶功率含量高于3.8kW,W含量大于20 at.％时,薄膜的摩擦系数及磨损率无明显变化.随着溅射靶功率的上升,薄膜在人工海水中的自腐蚀电流密度逐渐增加,阻抗逐渐降低.
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